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- 2023-08-14 发布于四川
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本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种料框搭载式的镀膜治具，其特征在于：所述镀膜治具包括料框及布置在所述料框上的料串，所述料框的两侧对称布置有若干个凹槽，所述料串搭载在两侧的所述凹槽之中，所述料串的一端设有用于与驱动机构相连的自转对接部，所述自转对接部伸出于所述料框之外，所述料框上设有与镀膜行星机构相连的公转对接部。本实用新型的优点是：结构简单，满足回转体镀膜产品的量产需求；料串不会因料框的公转而滑落；结合料框的公转及料串的自转，对回转体镀膜产品的圆周面进行均匀镀膜。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210085571 U
(45)授权公告日
2020.02.18
(21)申请号 20192
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