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薄膜技术发展历程 (一) ：镀膜发展史 化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817 年， Fraunhofe 在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜， 1835 年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备 的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50 年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空 镀膜取代。 真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业撒谎能 够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。它们大规模地应用，实际上是在 1930 年出现了油扩散泵机械泵抽气系统之后。 1935 年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先 应用是 1945年以后镀制在眼镜片上。1938 年，美国和欧洲研制出双层 减反射膜，但到 1949 年才制造出优质的产品。1965年，研制出宽带三 层减反射系统。在反射膜方面，美国通用电气公司 1937 年制造出第一 盏镀铝灯。德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方 面，德国 1939 年试验淀积出金属—介质薄膜 FabryPerot 型干涉滤 光片。 在溅射镀膜领域，大约于 1858年，英国和德国的研究者先后于 实验室中发现了溅射现象。该技术经历了缓慢的发展过程。1955 年， Wehner 提出高频溅射技术后，溅射镀膜发展迅速，成为了一种重要的光 学薄膜工艺。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子 溅射等淀积工艺。 自 50 年代以来，光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两 个方面发展迅速。在镀膜方面，研究和应用了一系列离子基新技术。1953 年，德国的 Auwarter 申请了用反应蒸发镀光学薄膜的专利，并提出用 离子化的气体增加化学反应性的建议。1964 年，Mattox 在前人研究工 作的基础上推出离子镀系统。那时的离子系统在 10Pa 压力和 2KV 的放 电电压下工作，用于在金属上镀耐磨和装饰等用途的镀层，不适合镀光 学薄膜。后来，研究采用了高频离子镀在玻璃等绝缘材料上淀积光学薄 膜。70 年代以来，研究和应用了离子辅助淀积、反应离子镀和等离子化 学气相等一系列新技术。它们由于使用了带能离子，而提供了充分的活 化能，增加了表面的反应速度。提高了吸附原子的迁移性，避免形成柱 状显微结构，从而不同程度地改善了光学薄膜的性能，是光学薄膜制造 工艺的研究和发展方向。 实际上，真空镀膜的发展历程要远远复杂的多。我们来看一个这 个有两百年历史的科技历程： 19 世纪 真空镀膜已有 200 年的历史。在 19世纪可以说一直是处于探索 和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805 年, 开始研究 接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜 (Fraunhofer)。1839 年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。1852年, 开始研 究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄 膜 (Faraday;Conn)。 1874 年, 报道制成等离子体聚合物 (Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。 薄膜技术发展历程 (一) ：镀膜发展史 化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817 年， Fraunhofe 在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜， 1835 年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备 的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50 年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空 镀膜取代。 真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业撒谎能 够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。它们大规