真空镀膜技术的现状及发展.pdfVIP

真空镀膜技术的现状及发展 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可 以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。 近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常 广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液 相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，喷发物镀膜和离子镀等通常称作物理气相沉积法，就是基本的薄膜制取技 术。它们都建议淀积薄膜的空间必须存有一定的真空度。所以，真空技术就是薄膜制作技 术的基础，赢得并维持所需的真空环境，就是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真 空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具 （真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1 真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分 子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄 膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种：1．1 电阻蒸发源蒸镀法 使用钽，钼，钨等低熔点金属，制成适度形状的冷却源，其上时放入等待冷却材料， 使气流通过，对冷却材料展开轻易冷却冷却，或者把等待冷却材料放进氧化铝，氧化铍等 坩锅中展开间接冷却冷却，这就是电阻加热冷却法。 利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太 高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止， 在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点就是：冷却所能够达至的最低温度非常有限，加热器的寿命液较 短。近年来，为了提升加热器的寿命，国内外已使用寿命较长的氮化硼制备的导电陶瓷材 料做为加热器。据日本专利报导，可以使用 20％～30％的氮化硼和能够与其相沸的耐火材 料所共同组成的材料去制作坩锅，并在表面涂上一层含 62％～82％的锆，其余为锆硅合金 材料。1．2 电子束冷却源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在 基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克 服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 靠电子束炮击冷却的真空金属粉末技术，根据电子束冷却源的形式相同，又可以分成 环形枪，直枪，e 型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。 它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产 型的装置中已经不再使用。 直枪就是一种轴对称的直线快速枪，电子从灯丝阴极升空，T4300 细束，经阳极快速 后踢在坩锅中并使镀膜材料融化和冷却。直枪的功率从几百瓦至几百千瓦的都存有，有的 可以用作真空蒸发，有的可以用作真空炼钢。直枪的缺点就是金属粉末的材料可以污染枪 体结构，给运转的稳定性增添困难，同时升空灯丝上逸出的钠离子等也可以引发膜层的污 染，最近由西德公司研究，在电子束的出口处设置偏移磁场，并在灯丝部位做成一套单一 制的抽气系统而制成直枪的改良形式，不但全盘干便了灯丝对膜的污染，而且还有助于提 升枪的寿命。 e 型电子枪，即 270 摄氏度偏转的电子枪克服了直枪的缺点，是目前用的较多的电子 束蒸发源之一。e 型电子枪可以产生很多的功率密度，能融化高熔点的金属，产生的蒸发 粒子能量高，使膜层和基底结合牢固，成膜的质量较好。缺点使电子枪要求较高的真空度， 并需要使用负高压，真空室内要求有查压板，这些造成了设备结构复杂，安全性差，不易 维护，造价也较高。 空心阴极电子枪就是利用低电压，小电流的空心阴极振动产生的等离子电子束做为冷 却源。空心阴极电子枪用空心的钽管做为阴极，坩锅做为阳极，钽管及附近装有辅助阳极。 利用空心阴极电子枪金属粉末时，产生的冷却离子能量低，离化率也低，因此，成膜质量 不好。空心阴极电子枪对真空室的真空度建议比 e 型电子枪高，而且就是采用低电压工作， 相对来说，设备较直观和安全，耗资也高。目前，在我国 e 型电子枪和空心阴极电子枪都 已顺利地应用于金属粉末