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提供光掩模的制造方法、光掩模及显示装置用器件的制造方法。即使在利用相移作用的光掩模中产生缺陷,也能够进行精密的修正。一种光掩模的制造方法,该光掩模具有转印用图案,该转印用图案包含将在透明基板上形成的半透光膜图案化而成的半透光部,所述光掩模的制造方法包括如下工序:在所述半透光部产生了缺陷的情况下,确定要实施修正的所述缺陷,决定形成用于修正所述缺陷的修正膜的修正区域的工序;以及修正膜形成工序,在所述修正区域形成所述修正膜,在所述修正膜形成工序中,依次层叠第1膜和第2膜,所述第1膜具有比所述半透光膜高
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116626982 A
(43)申请公布日 2023.08.22
(21)申请号 202310618401.2 G03F 7/20 (2006.01)
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