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本实用新型提供一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构，包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室，所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述固定套管的两端设有真空密封阀，并且设有贯通内外的抽气口与布气管；所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接，相邻的靶材用绝缘条相互隔绝，数个靶材均连接有外部电源；所述磁铁呈片状，在镀膜室的轴向上依次层叠，与各个靶材分别对应布置。本实用新型可根据需镀膜层的不同要求，设计不同长度的靶材及其组合，然后根据靶材的组成情况，装配于相应长度的固定套管内，而磁
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210237767 U
(45)授权公告日
2020.04.03
(21)申请号 20192
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