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双层铁磁薄膜的色散关系解析 1. 铁磁/反铁磁双层薄膜的耦合过程 由于fe-cr多层膜发现了巨大的磁强效应（pmr），因此研究vmr效应已成为冷静态物理和科学研究的热点。特别是在旋转器结构中得到广泛应用后，人们对多层面磁强膜的研究产生了强烈的兴趣。为了清楚地了解膜材料的性能，研究多层膜层之间的耦合效应、膜厚和磁学性能之间的内部关系，对于提高旋转器的磁强效应和磁敏度具有重要意义。 众所周知, 在自旋阀结构中, 其灵敏性完全取决于两铁磁层间的相互作用, 因而层间耦合问题是研究各种人造磁性多层薄膜特性的关键因素.常见的耦合问题主要集中在铁磁/反铁磁[4,5,6,7,8,9,10,11,12,13]和铁磁/铁磁双层薄膜[14,15,16,17,18,19]等结构上.对前者的研究发现界面粗糙度、织构、层间互扩散和晶粒尺寸以及界面处的化学反应等因素都会对交换偏置有影响.而对后者的讨论则偏向于界面相互作用、中间层材料以及厚度和外磁场的影响等方面.但是, 上述研究中大都忽略了薄膜中的应力效应, 而在实际应用中应力对材料的性能有较大的影响, 严重时会导致材料的断裂、脱落, 从而缩短其使用寿命.最近, 国内一些作者对薄膜应力问题进行了初步研究, 采用铁磁/反铁磁双层膜系统, 但所得结论与我们有所不同, 见文献. 实验上研究多层膜系统的技术手段很多, 其中由于铁磁共振 (FMR) 技术可以提供磁有序系