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日本专利申请流程
日本现行的专利制度，由横向的三种专利制度类型以及纵向的不同位阶的法律法规组成，形成了复杂、精细的法律体系。并且在每一部法律法规之内，其条文的设置也比较复杂，并且表达精确、逻辑严密。
专利类型
发明（特许）：
保护期限为自申请日起20年，在日本获得发明专利需要就专利申请提出实质审查请求，通过实质审查后方可获得专利权。在一定的条件下，关于化学和医药领域的发明可以社情延长5年。
实用新型（实用新案）:
保护期限为自申请日起10年，在日本，实用新型申请不进行实质审查。审查周期比较短，提交之日起大概4个月左右就会做出授权决定。
外观设计（意匠）：
外观设计在日本的保护期限为注册日起20年。需要注意的是，在日本获得外观设计专利权需要通过实质审查，不需要提出实审请求，是自动实审制。不过审查周期比较短，大约自申请日起6个月就会发出第一次审查意见通知书或者授权决定。
具体流程
PCT途径
1进入日本国家阶段声明
2申请文件（说明书，权利要求书，附图，摘要等）申请文件的日译文；PCT条约19条，34条修改的修改说明，修改后的申请文件的日译文。（如果PCT申请文件非日文，该申请文本的日译文可在进入国家阶段的声明之日起2个月内补交）
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