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本发明的基板蚀刻处理装置可包括:基板支撑装置,包括吸盘底座和吸盘销,吸盘底座以可水平旋转的方式配置,在中心形成有垂直贯通的光贯通孔,吸盘销设置在吸盘底座的上部,用于支撑基板;旋转马达,通过中空管形态的驱动轴来旋转驱动基板支撑装置;吹扫气体供给组装体,在不进行旋转的状态下,通过轴承与驱动轴连接,在吸盘底座的下部中心形成有向上下方向贯通延伸的中孔,中孔以与吸盘底座的底部隔开的状态垂直延伸配置,以向吹扫气体流入孔供给吹扫气体;以及基板检测单元,包括透光部和受光部,透光部设置在吹扫气体供给组装体的中孔内
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116666255 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202210666107.4
(22)申请日 2022.06.13
(30)优先权数据
10-2022-0022465
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