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本发明涉及一种永久修复光刻掩模(105、210、220)的材料缺损的缺陷(260、270、280)的方法，该方法包括以下步骤：(a)在掩模(105、210、220)的待修复位置处提供至少一个含碳前驱气体和至少一个氧化剂；(b)在材料缺损的位置处借助于至少一个能量源(127)引发所述至少一个含碳前驱气体的反应，从而在材料缺损的位置处沉积材料，其中沉积的材料(460、670、880)包括反应的至少一个含碳前驱气体的至少一个反应产物；以及(c)控制所述至少一个氧化剂的气体体积流速，以使沉积的材料(46
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116661237 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310546066.X (51)Int.Cl .
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