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本发明公开了一种掩膜版检查机精度校准样片，包括基片，基片上设置有位置校准区域和精度校准区域；精度校准区域内设置有对比图形单元和缺陷图形单元；对比图形单元内呈横纵排列状设置有若干掩膜版样片对比图形，对比图形单元内同一行中掩膜版样片对比图形一致，仅尺寸增减；缺陷图形单元内呈横纵排列状设置有若干掩膜版样片缺陷图形，缺陷图形单元内同一行中掩膜版样片缺陷图形一致，仅尺寸增减；对比图形单元和缺陷图形单元内同一行、列位置的掩膜版样片对比图形和掩膜版样片缺陷图形一致，且尺寸相同，仅掩膜版样片缺陷图形内增设缺陷特
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116661238 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310428810.6
(22)申请日 2023.04.20
(71)申请人 深圳清溢光电股份
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