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本申请提供一种缺陷样本生成方法、装置、电子设备及存储介质。方法包括：获得待处理工件图像和带缺陷工件图像；带缺陷工件图像包括第一缺陷区域；在待处理工件图像中随机确定第二缺陷区域；将第一缺陷区域与第二缺陷区域进行直方图匹配，获得新的待处理工件图像；将新的待处理工件图像输入风格迁移模型中进行风格迁移处理，获得风格迁移模型输出的目标图像；目标图像中的包括生成的缺陷。本申请实施例通过在待处理工件图像中随机确定第二缺陷区域用来仿造缺陷，其位置、形状、大小都是随机的，因此，能够获得更多种类的缺陷，然后利用直方
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111681162 A
(43)申请公布日
2020.09.18
(21)申请号 20201
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