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本实用新型公开了一种直写光刻机构，其包括光源模组、曝光系统和放置待曝光基板的基板平台，曝光模组将光源模组的光线投影到所述基板上，其还包括至少一个升温装置，所述升温装置包括热源，所述热源投射热能量至所述基板，使得所述基板的温度升高。通过上述升温装置的使用，使得所述基板在进行曝光的过程中提前预升温，或者在曝光的过程中进行升温处理，或者曝光完成后进行升温处理，提高了光聚合反应的效率，缩短了光聚合反应的时间，进而缩短了光刻机的曝光时间，提高了光刻机的效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210348189 U
(45)授权公告日
2020.04.17
(21)申请号 20192
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