版图、版图布局的优化方法以及工艺稳定性的提高方法.pdfVIP

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2023-09-07 发布于四川
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版图、版图布局的优化方法以及工艺稳定性的提高方法.pdf

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本发明提供了一种版图、版图布局的优化方法以及工艺稳定性的提高方法。具体的，可以按照预设划分规则，将芯片设计电路的版图划分为多个区域，并依次确定出每个所述区域的初始图形密度，判断每一区域的初始图形密度是否满足工艺设计要求；若不满足，则将区域中所布设的至少一功能模块所对应的部分或全部图形进行一次或多次位置移动，并在每次位置移动之后，再次确定每个所述区域的图形密度是否满足所述工艺设计要求，若不满足，则循环执行所述位置移动步骤，直至多个区域所对应的图形密度均满足工艺设计要求，即，提高了通过位置移动后得到

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116702688 A (43)申请公布日 2023.09.05 (21)申请号 202310798055.0 (22)申请日 2023.06.30 (71)申请人上海华虹宏力半导体制造有限公司地