原创力文档- 1
- 0
- 约3.71万字
- 约 30页
- 2023-09-10 发布于四川
- 举报
本申请提供一种掩膜生成模型训练方法、掩膜生成方法及装置和存储介质，包括：获取训练样本集，一训练样本包括芯片样本的目标版图和目标版图的掩膜，针对至少一训练样本，以芯片样本的目标版图作为掩膜生成模型的输入，得到目标版图的预测掩膜，将目标版图的预测掩膜输入光刻物理模型，得到该预测掩膜对应的晶圆图案，根据芯片样本的目标版图包括的多个图形的周长之和与目标版图的预测掩膜的周长，确定目标版图的预测掩膜的复杂度，根据芯片样本的目标版图、目标版图的预测掩膜对应的晶圆图案、目标版图的掩膜、目标版图的预测掩膜和目标版
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116720479 A
(43)申请公布日 2023.09.08
(21)申请号 202311005424.2 G06N 3/0464 (2023.01)
文档评论（0）