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一种支撑平台和磁流变抛光设备.pdfVIP

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  • 2023-09-16 发布于四川
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一种支撑平台和磁流变抛光设备.pdf

    本实用新型涉及一种支撑平台和磁流变抛光设备，包括用于承载的支架，所述支架上设置有用于安装检测模组的第一安装平台和用于安装抛光头的第二安装平台，第一安装平台与第二安装平台相邻设置，且第一安装平台与第二安装平台有间隙，第一安装平台与支架之间设置有若干隔振器，第二安装平台与支架之间设置有若干隔振器，第一安装平台和第二安装平台分别采用的是大理石平台；本支撑平台，设计更加合理，不仅可以有效防止磁流变抛光头运行过程中产生的振动影响检测模组的检测精度，而且基本不存在应力释放过程，可以有效保证磁流变抛光头的抛光

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219684809 U (45)授权公告日 2023.09.15 (21)申请号 202321114944.2 B24B 41/02 (2006.01) (22)申请日 2023.05.

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