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本发明公开了一种不受外界磁场干扰的求解结构面产状的方法。它包括如下步骤，步骤一、获取基础数据：采用不受外界磁场干扰的专业测量方法获取目标结构面上三个点的坐标和高程，三个点不共线；步骤二、判断A、B、C三点高程是否全相等，如果全相等，则结构面水平；步骤三、在A、B、C三点高程不全相等情况下，求出结构面上高程相等的两点的坐标，确定走向线，得到结构面走向；步骤四、在A、B、C三点高程不全相等情况下，求解结构面的倾角；步骤五、求解倾斜结构面的倾向；步骤六、简化上述结构面产状求解过程，得到便于应用的结构面
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116758133 A
(43)申请公布日 2023.09.15
(21)申请号 202310504111.5
(22)申请日 2023.05.06
(71)申请人 长江岩土工程有限公司
地址 43
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