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衬底的抛光装置、方法以及光掩模基版的制造方法.pdfVIP

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  • 2023-09-16 发布于四川
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衬底的抛光装置、方法以及光掩模基版的制造方法.pdf

    本发明提供了一种衬底的抛光装置、方法以及光掩模基版的制造方法，所述衬底的抛光装置包括：离子发生器，用于向衬底表面发射等离子体或离子束；至少一个线圈，设置于所述衬底的外围，所述线圈用于产生平行于所述衬底表面的磁场，以使得所述等离子体或所述离子束在所述磁场的作用下向平行于所述衬底的方向发生偏转。本发明的技术方案使得在抛光过程中避免损伤衬底表面，从而使得明显提高衬底表面的平整度，改善衬底表面的粗糙度。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116748959 A (43)申请公布日 2023.09.15 (21)申请号 202310819751.5 (22)申请日 2023.07.05 (71)申请人 上海传芯半导体有限公司 地址 2

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