1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种改善谐振腔气流和温度分布的MPCVD装置.pdfVIP

  • 6
  • 0
  • 约7.33千字
  • 约 8页
  • 2023-09-16 发布于四川
  • 举报

一种改善谐振腔气流和温度分布的MPCVD装置.pdf

    本实用新型提供一种改善谐振腔气流和温度分布的MPCVD装置，涉及金刚石生产领域。该改善谐振腔气流和温度分布的MPCVD装置，包括支撑法兰柱，所述支撑法兰柱底部通过螺栓固定连接有谐振腔，所述谐振腔内部顶端固定连接有石英玻璃，所述石英玻璃底部固定连接有天线，所述天线轴心位置固定连接有特气进气管，所述谐振腔内部底端中心孔处固定连接有气流盘，所述谐振腔底部设置有过渡腔。该改善谐振腔气流和温度分布的MPCVD装置，使谐振腔内气体更加均匀的通过气流孔，同时使腔体内部温度更加均匀，多晶颗粒物沉积在气流孔的多晶

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219689857 U (45)授权公告日 2023.09.15 (21)申请号 202321199750.7 (22)申请日 2023.05.17 (73)专利权人 碳方程新材料 （山西）有限公司

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >