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本发明涉及一种修整方法,通过修整装置修整抛光垫,修整轮设置于外齿齿轮及内齿齿轮之间,并能够在外齿齿轮及内齿齿轮的带动下同时发生自转和公转;修整轮本体设有多组圆心与修整轮本体的圆心之间的距离不同的通孔,修整件可拆卸地安装于通孔内;根据公式:,以及预设的去除速率MRR,调整修整件的数量、位置及相对于抛光垫的运动速度。这样就能够在不更换修整轮本体的情况下实现对抛光垫整体和局部的形状进行修整,允许选择的范围较广;根据公式来调节修整件使得调节过程更加高效,提升抛光垫的加工精度及生产效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116749080 A
(43)申请公布日 2023.09.15
(21)申请号 202311042637.2
(22)申请日 2023.08.18
(71)申请人 浙江求是半导体设
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