1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种晶体材料均一化抛光装置.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.05万字
  • 约 11页
  • 2023-09-17 发布于四川
  • 举报

一种晶体材料均一化抛光装置.pdf

    本实用新型公开了一种晶体材料均一化抛光装置，包括：进给单元、夹持单元、抛光单元和控制单元；所述进给单元，用于带动工件沿设定运动轨迹在抛光单元表面运动，并实时将其运动轨迹相关信息反馈至控制单元；所述夹持单元，用于夹持工件并使工件在运动过程中自转，同时用于对工件提供一定的加载力；所述抛光单元，用于对在其表面运动的工件进行抛光；所述控制单元，用于控制所述进给单元的运动轨迹及控制夹持单元的加载力。通过上述方式，本实用新型能够保证工件去除率的均一性、提高工件的几何精度和表面质量。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210435923 U (45)授权公告日 2020.05.01 (21)申请号 20192

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >