一种电子束蒸镀钯的方法.pdfVIP

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115094389 A (43)申请公布日 2022.09.23 (21)申请号 202210808563.8 (22)申请日 2022.07.11 (71)申请人 威科赛乐微电子股份有限公司 地址 404000 重庆市万州区万州经开区高 峰园檬子中路2号 (72)发明人 姚林松　黄靖　陈丽祥　彭鹏　 (74)专利代理机构 广州市华学知识产权代理有 限公司 44245 专利代理师 黄宗波 (51)Int.Cl. C23C 14/30 (2006.01) C23C 14/16 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (54)发明名称 一种电子束蒸镀钯的方法 (57)摘要 本发明涉及半导体制备领域，公开了一种电 子束蒸镀钯的方法，先使用预熔坩埚对钯金属进 行手动熔源，然后将钯金属熔液倒入工艺坩埚 内，再在蒸镀时采用功率逐渐增大的三种不同功 率对钯金属进行分三次预熔；所述在蒸镀时采用 功率逐渐增大的三种不同功率对钯金属进行三 次预熔的方法具体为：将盛装钯金属熔液的工艺 坩埚使用电子枪进行预熔，第一次为在30秒的时 间内，将电子枪功率提升至5‑6KW，然后稳定3‑ 4min；第二次为将电子枪的功率提升至6.6 ‑ 7.5KW，稳定3‑4min；第三次为将电子枪的功率提 升至7.0‑7.5KW，稳定7‑9min。本发明能够减少钯 A 金属的飞溅浪费，且蒸镀出来的钯金属薄膜光 9 滑、致密，形成优质膜。 8 3 4 9 0 5 1 1 N C CN 115094389 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：先使用预熔坩埚对钯金属进行手动熔源，然 后将钯金属熔液倒入工艺坩埚内，再在蒸镀时采用功率逐渐增大的三种不同功率对钯金属 进行分三次预熔。 2.根据权利要求1所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：所述使用预熔坩埚对 钯金属进行手动熔源时，在10KV的电压下，采用0.2‑0.6A，功率1‑6KW下进行手动熔源10‑ 15min。 3.根据权利要求2所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：所述将钯金属熔液倒 入工艺坩埚时，采用真空环境，所述预熔坩埚与竖直线之间的倾倒角度＜90°。 4.根据权利要求3所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：所述预熔坩埚的容量 为40‑45CC，所述工艺坩埚的容量为60‑65CC，所述钯金属熔液在工艺坩埚内的高度为1/3， 将钯金属熔液倒入工艺坩埚时，所述预熔坩埚的倾倒角度为30‑60°。 5.根据权利要求1所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：所述在蒸镀时采用功 率逐渐增大的三种不同功率对钯金属进行三次预熔的方法，具体为：将盛装钯金属熔液的 工艺坩埚使用电子枪进行预熔，第一次为在30秒的时间内，将电子枪功率提升至5‑6KW，然 后稳定3‑4min；第二次为将电子枪的功率提升至6.6‑7.5KW，稳定3‑4min；第三次为将电子 枪的功率提升至7.0‑7.5KW，稳定7‑9min。 6.根据权利要求4所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：当将预熔坩埚中熔源 的钯金属熔液倒入工艺坩埚后，使用遮挡板遮挡住工艺坩埚的开口，工艺坩埚内的钯金属 熔液与预熔坩埚内的钯金属熔液质量之和，与添加的未熔钯金属的质量差≤0.2％。 7.根据权利要求1所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：所述预熔坩埚为钨金 属材质，所述工艺坩埚为陶瓷材质。 8.根据权利要求5所述的一种电子束蒸镀钯的方法，其特征在于：在进行电子束蒸镀 时，对工艺坩埚外周设置保温层，所述保温层为厚度1.5‑2.0mm的石