一种改善炉管机台内晶圆间磷浓度均匀性的工艺.pdfVIP

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2023-09-20 发布于四川
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一种改善炉管机台内晶圆间磷浓度均匀性的工艺.pdf

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本申请公开了一种改善炉管机台内晶圆间磷浓度均匀性的工艺，包括：提供一炉管机台，所述炉管机台的反应腔体内进入有放置有晶圆的晶舟，所述炉管机台的反应腔体内设置有侧面气管和顶部气管；在对所述晶圆进行多晶硅层掺杂工艺的过程中，通过所述侧面气管向所述晶舟吹出第一混合气体，并通过所述顶部气管向所述晶舟吹出第二混合气体；其中，所述第一混合气体包括工艺气体和载流气体，所述载流气体为氮气。本申请通过上述方案，能够改善晶圆间的磷浓度均匀性和晶圆间的电阻率均匀性。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116779430 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202310889579.0 (22)申请日 2023.07.19 (71)申请人华虹半导体（无锡）有限公司地址