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提供图案形成用薄膜表面的微小缺陷较少的掩模坯料。掩模坯料在基板上具备图案形成用薄膜。图案形成用薄膜是含有铬与氮的单层膜、或者包含含有铬与氮的氮化铬系层的多层膜。对于图案形成用薄膜的表面，设定以基板的中心为基准的一边为1μm的四边形的内侧区域即中央区域，在该中央区域测定算术平均粗糙度Sa与最大高度Sz时，Sa为1.0nm以下，并且Sz/Sa为14以下。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116783548 A
(43)申请公布日 2023.09.19
(21)申请号 202280010746.3 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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