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一种抑制星载微波部件微放电效应的薄膜及沉积工艺.pdfVIP

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  • 2023-09-20 发布于四川
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一种抑制星载微波部件微放电效应的薄膜及沉积工艺.pdf

    本发明提供了一种抑制星载微波部件微放电效应的薄膜及沉积工艺，包括在星载微波部件表面先后以原子层沉积方式制备目标厚度的氮化钛薄膜和无定形碳薄膜，所述氮化钛薄膜的目标厚度为15～20nm；所述无定形碳薄膜的目标厚度为5～8nm。在星载微波部件表面先后沉积氮化钛薄膜和无定形碳薄膜，能够实现微波部件表面微放电效应的抑制，并具有强的膜基结合力、良好的表面抗氧化性、复杂微波部件表面保形性和优异的电学特性。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116770267 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202310639832.7 (22)申请日 2023.05.31 (71)申请人 西安空间无线电技

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