多铁性材料BiFeO3薄膜的制备及性能研究的中期报告.docxVIP

多铁性材料BiFeO3薄膜的制备及性能研究的中期报告.docx

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多铁性材料BiFeO3薄膜的制备及性能研究的中期报告 本次实验以BiFeO3薄膜为研究对象,旨在制备高质量的BiFeO3薄膜并研究其多铁性质。通过磁性和电学性质的测量来评估材料的性能。 首先通过化学溶液法制备BiFeO3前驱体溶液。将所需的Bi和Fe盐加入到弱酸性溶液中,在磁子搅拌下充分混合,并加入酒精沉淀剂。得到固体沉淀物后进行煅烧处理得到BiFeO3前驱体粉末。 其次,采用激光分子束外延(PLD)技术在硅基底上生长BiFeO3薄膜。在真空条件下对BiFeO3前驱体进行激光脉冲蒸发,将产生的原子和分子沉积在硅基底上形成薄膜。通过控制 PLD 实验参数,如气体压力、激光功率、基底温度等,优化生长过程,确保薄膜的高质量。薄膜结构和形貌的表征结果表明,制备的BiFeO3薄膜结晶度高、表面平整。 最后,通过测量多铁性质,研究BiFeO3薄膜的性能。磁性方面,通过振动样品磁强计(VSM)测量薄膜的磁滞回线,得到BiFeO3薄膜的磁性行为表明其是一种反铁磁性材料。电学方面,采用测试系统测量薄膜的电容、介电常数、电阻等。结果表明BiFeO3薄膜在室温下具有高介电常数和低电阻的特性。 综上所述,制备的BiFeO3薄膜具有良好的质量,且表现出明显的多铁性质。随着进一步的研究,该材料具有广阔的应用前景。

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