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本申请公开了一种光刻对准的检测方法，包括：获取对准图形通过粗对准后的第一坐标值，第一坐标值包括第一X坐标值和第一Y坐标值，第一X坐标值是对准图形通过粗对准后得到的X轴方向上的坐标，第一Y坐标值是对准图形通过粗对准后得到的在Y轴方向上的坐标；获取对准图形在精对准后的第二坐标值，第二坐标值包括第二X坐标值和第二Y坐标值，第二X坐标值是对准图形通过精对准后得到的X轴方向上的坐标，第二Y坐标值是对准图形通过精对准后得到的在Y轴方向上的坐标；根据第一差值和第二差值判断是否存在对准错误，第一差值是第一X坐标
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116794937 A
(43)申请公布日 2023.09.22
(21)申请号 202310755360.1
(22)申请日 2023.06.26
(71)申请人 华虹半导体（无锡）有限公司
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