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本实用新型具体公开了一种立式真空镀膜炉，包括真空室（1）、真空镀膜室（2）、低真空系统（3）、高真空系统（4）、维护系统（5）和输送装置（6），所述低真空系统（3）和高真空系统（4）位于真空室（1）的左端并且与真空室（1）相连通，所述真空镀膜室（2）位于真空室（1）的右端并且与真空室（1）相连通，所述维护系统（5）位于真空室（1）的上端并且与真空室（1）相连通，所述输送装置（6）连接在真空镀膜室（2）的后端。本实用新型的立式真空镀膜炉抽真空速度快，保压稳定，同时实现多种工艺不同颜色的产品加工和提
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210560733 U
(45)授权公告日
2020.05.19
(21)申请号 20192
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