基于各向异性刻蚀技术的石墨烯纳米带的可控加工及性能研究的中期报告.docxVIP

基于各向异性刻蚀技术的石墨烯纳米带的可控加工及性能研究的中期报告 本中期报告基于各向异性刻蚀技术，研究了石墨烯纳米带的可控加工和性能。 首先，我们进行了样品制备。通过CVD方法在镍基底上生长得到石墨烯膜，再利用电子束光刻和金属蒸发技术在石墨烯膜上制备出所需形状的掩膜。接下来，使用反应离子束刻蚀仪进行刻蚀。通过调整离子束角度和刻蚀时间的参数，成功制备了具有不同宽度和长度的石墨烯纳米带。 然后，我们对制备的石墨烯纳米带进行了表征。利用原子力显微镜、拉曼光谱仪和X射线衍射仪对石墨烯纳米带的表面形貌、结构和光学性能进行了测试。结果表明，制备的石墨烯纳米带具有较为规整的形貌和晶体结构，并且具有良好的光学特性。 最后，我们进行了性能测试。利用场效应晶体管测试系统对石墨烯纳米带进行了电学测试。结果表明，制备的石墨烯纳米带具有优异的电性能，显示出了高载流子迁移率和低电阻等特性。 综上所述，通过各向异性刻蚀技术成功制备了具有不同形状和性能的石墨烯纳米带，并对其进行了全面的表征和性能测试。未来，我们将进一步研究其应用于电子器件中的性能和可靠性问题。