一种双色碲镉汞器件的台面刻蚀方法及应用.pdfVIP

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2023-09-30 发布于四川
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一种双色碲镉汞器件的台面刻蚀方法及应用.pdf

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本申请公开了一种双色碲镉汞器件的台面刻蚀方法及应用，包括如下步骤：在双色碲镉汞器件表面进行光刻，形成电极干法刻蚀光刻胶掩膜图形；将双色碲镉汞器件固定在刻蚀设备内，并将刻蚀设备抽真空至预设真空条件；向所述刻蚀设备通入预设比例的H2、CH4、Ar的混合刻蚀气体；利用指定的工艺参数进行干法刻蚀，并在干法刻蚀后，对双色碲镉汞器件进行湿法腐蚀；清洗湿法腐蚀后的双色碲镉汞器件，完成台面刻蚀。本申请优化台面刻蚀工艺，降低了高深宽比台面双色器件表面的干法刻蚀损伤，降低了侧壁粗糙度，减少碲镉汞红外探测器的表面漏电

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116825894 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310838214.5 (22)申请日 2023.07.10 (71)申请人中国电子科技集团公司第十一研究