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- 2023-10-04 发布于四川
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本发明涉芯片制备技术领域和光刻技术领域，具体涉及一种五轴调节装置及曝光系统。一种五轴调节装置，包括高度调节组件，高度调节组件包括相对设置的第一底板和第一顶板；所述第一底板上设有滑动柱，所述第一顶板内穿设有滑动柱，所述第一底板和第一顶板间设有至少一个斜向滑轨对，所述斜向滑轨对包括斜向滑槽和与所述斜向滑槽适配的斜向导轨，所述斜向导轨与第一顶板固定连接，沿水平方向朝向斜向导轨施加力带动斜向导轨进行移动，以使第一顶板沿滑动柱的中心轴线上升或下降。本发明解决针对曝光操作相关结构的位姿调节结构在高度等方向调
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116841136 A
(43)申请公布日 2023.10.03
(21)申请号 202311111065.9
(22)申请日 2023.08.31
(71)申请人 光科芯图 （北京）科技有限公司
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