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一种图案化金属氧化物层的制备方法.pdfVIP

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  • 2023-10-04 发布于四川
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一种图案化金属氧化物层的制备方法.pdf

    本发明提供一种图案化金属氧化物层的制备方法，包括步骤：S1：在衬底上旋涂一定厚度的PMMA光刻胶；S2：利用电子束或极紫外光刻获得PMMA光刻胶图形；S3：采用原子层沉积进行金属氧化物层的精确厚度沉积，该可沉积厚度的选定条件为，当沉积厚度小于某阈值时，保证只形成PMMA光刻胶渗入金属氧化物所形成的渗透层，而不形成纯的金属氧化物层；S4：再利用电子束或极紫外光刻对全区域进行曝光，以去除所有的PMMA光刻胶以及渗透层，显影，清洗，即得。根据本发明，可制备纳米尺度的精细图案，同时实现了金属氧化物层膜厚

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116844956 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202310696108.8 (22)申请日 2023.06.13 (71)申请人 中国科学院上海高等研究院 地址

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