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本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的光学系统(200),具有光学元件(202),该光学元件包括衬底(204)、设置在衬底(204)上的光学有效区域(210、210’)以及多个通道(212、212’、214、214’、212A、214A、212B、214B、212C、214C、212D、214D、212E、214E、212F、214F、212G、214G、212H、214H、212J、214J、212I、214I),所述通道延伸穿过衬底(204),并且可以通过流体(F)向所述多个通道
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116868129 A
(43)申请公布日 2023.10.10
(21)申请号 202280011254.6 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所
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