原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明属于涉及陶瓷材料技术领域，公开一种HfSiO4的低温高效制备工艺包括以下步骤：将铪源与正硅酸乙酯均匀分散于非水溶剂中，搅拌处理后，过滤，获得混合溶液A；向所述混合溶液A中加入矿化剂混匀，调节体系的Li与Si的摩尔比为1～5:10，获得混合溶液B；将所述混合溶液B干燥后，于惰性氛围下进行高温热处理，即获得所述HfSiO4。本发明制备工艺具有制备温度低、制备周期短、工艺流程简单等众多优势，且制备的HfSiO4的纯度最高可达98％以上。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116873944 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202310875460.8
(22)申请日 2023.07.18
(71)申请人 南昌航空大学
地址 3300
文档评论（0）