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本发明公开的一种用于硅片表面绒面制备的添加剂及制备方法，包括形核剂5～500μmol/L(μM)，金属离子分散剂2～200μM，消泡剂1～10mM；形核剂含有季铵盐类化合物，促使其他物质在特定条件下形成晶核；金属离子分散剂与金属离子形成稳定的络合物，从而分散和稳定金属离子；消泡剂含有不同化学结构的表面活性剂或醇类化合物。通过S1、硅片清洗；S2、去氧化层与非晶层；S3、刻蚀；S4、去金属颗粒；制备获得。本发明提供一种复合型添加剂，改善固液界面反应活性和提升物质传输速率，加快刻蚀反应速率，且能有效
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116876083 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202310853453.8
(22)申请日 2023.07.12
(71)申请人 昆明理工大学
地址 650000
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