含噻吩、氰酸酯单元的三嗪基纳米孔聚合物的合成及表征的中期报告.docxVIP

含噻吩、氰酸酯单元的三嗪基纳米孔聚合物的合成及表征的中期报告 本项目旨在合成一种含噻吩、氰酸酯单元的三嗪基纳米孔聚合物，并对其进行表征。在前期工作中，我们合成了嗜水性聚乙烯醇-b-噻吩单元修饰的三嗪（TEG-PVA-b-PT）。在本阶段，我们采用这个聚合物作为孔模板，通过溶剂挥发法制备了孔道较大的孔隙材料，并称之为TEG-PVA-b-PT-AC（AC为氰酸酯单元）。 首先，我们使用FTIR对合成的TEG-PVA-b-PT-AC进行了表征。图1显示了TEG-PVA-b-PT和TEG-PVA-b-PT-AC的FTIR光谱图。可以发现，TEG-PVA-b-PT的IR光谱中有噻吩单元的吸收峰（1463 cm-1和1477 cm-1）。在TEG-PVA-b-PT-AC的光谱中，除了噻吩单元的吸收峰，还出现了位于1773 cm-1的C=O伸缩振动，证明AC单元成功引入。 接下来，我们使用气体吸附/脱附实验（BET）对TEG-PVA-b-PT-AC的孔隙结构进行了测试。如图2所示，TEG-PVA-b-PT-AC表现出适度的比表面积（402 m2/g），孔径分布主要集中在2-6 nm之间，孔隙体积达到了0.32 cm3/g。 最后，我们用场发射扫描电镜（FESEM）来证明TEG-PVA-b-PT-AC样品中存在孔道。如图3所示，可以看到样品表面有明显的孔道结构。 综合以上结果，表明我们成功地合成了