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本发明提供一种基片处理装置，其包括具有喷淋板和冷却板的喷淋头，在该基片处理装置中，抑制冷却板的翘曲，防止或减轻喷淋板的破损。基片处理装置包括：等离子体处理腔室；基片支承部，其设置在上述等离子体处理腔室内，能够支承基片；和与上述基片支承部相对的喷淋头，上述喷淋头具有：喷淋板，其形成有释放气体的气体释放口；冷却板，其保持上述喷淋板，形成有供给致冷剂的致冷剂流路和气体供给流路；以及多个气体扩散室，其形成在上述喷淋板与上述冷却板之间，分别与上述气体释放口和气体供给流路连通，上述致冷剂流路在俯视时至少一部
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116895505 A
(43)申请公布日 2023.10.17
(21)申请号 202310254236.7
(22)申请日 2023.03.16
(30)优先权数据
2022-061310 202
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