半导体制造设备尾气处理系统和尾气处理方法.pdfVIP

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2023-10-18 发布于四川
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半导体制造设备尾气处理系统和尾气处理方法.pdf

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本申请公开了一种半导体制造设备尾气处理系统，包括：反应腔室，其排出的尾气中包含砷和/或磷；尾气管道，接收反应腔室排出的尾气；过滤器，与反应腔室通过尾气管道连接，用于过滤反应腔室排出的尾气；其中，在反应腔室和过滤器之间的尾气管道上连接活性砷磷去除装置,所述活性砷磷去除装置包括气路系统，连接至反应腔室和过滤器之间的尾气管道上，用于向尾气管道中输送与活性As和/或P发生氧化反应的氧化性气体,以消除尾气中的活性砷和/或磷。本发明通过在尾气系统中设置活性砷磷去除装置，消除尾气中的活性砷和/或磷，提高了设备

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116889785 A (43)申请公布日 2023.10.17 (21)申请号 202310869672.5 (22)申请日 2023.07.13 (71)申请人江苏宜兴德融科技有限公司地址