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本申请公开了一种用于OLED阴极掩膜版表面的清洗剂。一种用于OLED阴极掩膜版表面的清洗剂,包括以下重量份数的原料,A组分15‑30份;其中,所述A组分包括以下重量分数的原料,双氧水5‑20%,硝酸5‑20%,α‑PGA2‑8%,HEDP2‑8%和pH调节剂5‑10%,余量为去离子水。本申请制备的清洗剂高效去除掩膜版表面的镁银合金,清洗速率快且对环境环保无污染。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116892025 A
(43)申请公布日 2023.10.17
(21)申请号 202310734727.1
(22)申请日 2023.06.20
(71)申请人 深圳飞世尔新材料股份有限公司
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