铋系薄膜的制备及其介电、铁电性能的研究的中期报告.docxVIP

铋系薄膜的制备及其介电、铁电性能的研究的中期报告 本中期报告主要介绍了铋系薄膜的制备及其介电、铁电性能的研究进展情况。 首先，我们采用射频磁控溅射技术制备了不同厚度的铋薄膜。通过X射线衍射分析表明铋薄膜为单晶结构，随着薄膜厚度的增加，晶粒大小有所增大。接着，我们采用场发射扫描电镜观察到铋薄膜表面的微观结构，发现薄膜表面非常光滑，没有明显的缺陷和污染。 其次，我们对铋系薄膜的介电性能进行了研究，使用LRC测量仪测量了铋薄膜的介电常数和介电损耗。结果表明，铋薄膜的介电常数随着频率的升高而逐渐降低，介电损耗在整个频率范围内都非常低，表现出优良的介电性能。 最后，我们进一步研究了铋系薄膜的铁电性能。通过极化-电场(Hysteresis)测试，我们发现铋薄膜表现出了明显的铁电性质。同时，我们还研究了铋薄膜铁电性质与薄膜厚度之间的关系，发现在一定范围内，随着薄膜厚度的增加，铁电性能有所增强。 综上所述，本研究成功地制备了铋系薄膜，并研究了其介电和铁电性能，对深入理解铋薄膜的物理性质和提高其相关技术应用有重要的参考价值。