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描述了一种用于在真空处理系统中支撑基板的基板支撑件。所述基板支撑件包括：基板支撑主体，所述基板支撑主体具有用于支撑所述基板的前侧和与所述前侧相对的背侧；吸盘组件，所述吸盘组件在所述基板支撑主体中或在所述基板支撑主体的所述背侧处；多个第一开口，所述多个第一开口在所述前侧中，所述多个第一开口与气体导管流体连通；多个第二开口，所述多个第二开口穿过所述基板支撑主体，被配置用于在装载或卸载期间支撑所述基板的多个升降销；多个第一突出部，所述多个第一突出部在所述前侧上，每个第一突出部至少部分地包围所述多个第二
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116917533 A
(43)申请公布日 2023.10.20
(21)申请号 202180094198.2 (51)Int.Cl .
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