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- 2023-10-21 发布于四川
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本公开涉及一种半导体器件及其制备方法和应用,半导体器件包括:复合载体,所述复合载体包括衬底和模板层,所述复合载体中包括具有张应力的区域和具有压应力的区域;有源层,用于注入的载流子的复合;第一半导体层,用于向所述有源层注入N型载流子;第二半导体层,用于向所述有源层注入P型载流子;第一电极,用作所述第一半导体层的能量传输,第一电极在所述复合载体上表面的投影落在所述压应力的区域内,或与其重合;第二电极,用作所述第二半导体层的能量传输,第二电极在所述复合载体上表面的投影落在所述张应力的区域内,或与其重合
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116914051 A
(43)申请公布日 2023.10.20
(21)申请号 202310864998.9 H01L 33/00 (2010.01)
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