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本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116909093 A
(43)申请公布日 2023.10.20
(21)申请号 202310054083.1
(22)申请日 2023.02.03
(30)优先权数据
2022-016244 202
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