一种双面对蚀的厚铜叠层制作方法.pdfVIP

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  • 2023-10-21 发布于四川
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本发明公开了一种双面对蚀的厚铜叠层制作方法,属于厚铜板制作技术领域,其技术要点是:包括开料,将铜箔裁切成工作尺寸;控深蚀刻,通过酸性蚀刻把铜箔的一半蚀刻出来;一次树脂填充,通过真空丝印机用PP半固化片中匹配的液态树脂填充到凹陷中,然后进行预烤固化;一次组合,相邻两层铜箔加上PP半固化片通过铆钉组合;一次压合,把上下铜板及中间的PP半固化片压合成一个整体芯板;图形蚀刻,把之前控深蚀刻位置的余铜从背面蚀刻相通;二次树脂填充:进行预烤固化;二次组合,把芯板两面分别添加两张PP半固化片和铜箔;二次压合,

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116916542 A (43)申请公布日 2023.10.20 (21)申请号 202310852695.5 (22)申请日 2023.07.12 (71)申请人 奥士康科技股份有限公司 地址 4

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