电弧离子镀氮化铝薄膜的光学及表面性能研究.pdfVIP

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  • 2023-10-24 发布于江苏
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电弧离子镀氮化铝薄膜的光学及表面性能研究.pdf

电弧离子镀氮化铝薄膜的光学及表面性能研究。电弧离子镀技术,通过改变沉积时间、氮气含量、氧掺杂、基底温度和沉积气压等沉积条件,生产出高质量的AlN薄膜。研究发现:通过氮化或氧化的方法减少沉积在薄膜表面的金属成分,不仅可以提高AlN薄膜的光学性能(透射率),还可以减少薄膜的表面能,从而提高薄膜的疏水性和耐腐蚀能力。第一章绪论电弧离子镀技术作为新型纳米材料之一,具有广阔的应用前景。该领域的研究主要包括电弧离子镀法制备、光电子学等。第二章实验内容与方法1.实验材料:选用硅片、不

摘 要 关于AlN 的研究,已经有超过半个世纪的时间。随着材料制备技术的发展, AlN 薄膜应用越来越广泛。例如AlN 薄膜的禁带宽、耐热高、光学性能好,可作为 光学材料,用它制造各种光学器件。AlN 薄膜具有优良的介电性能,是一种优异的 绝缘薄膜,特别适用于高温绝缘。除此之外,AlN 薄膜还有优良的压电性能,是压 电器件的优选材料,是表声波(SAW)器件的首选材料。高质量的AlN作为光学材料 有着独特的优势,在光学薄膜器件上有很好的应用前景。因此对于AlN 薄膜的透 射率、光学常数、表面的防水、防腐

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