PVD和CVD涂层方法分析和总结.docxVIP

. . ;. ;. PVD 和 CVD 涂层方法 涂层方法 目前生产上常用的涂层方法有两种：物理气相沉积 (PVD) 法和化学气相沉积(CVD) 法。 前者沉积温度为 500℃，涂层厚度为 2~5μm；后者的沉积温度为 900℃~1100℃，涂层厚度可达 5~10μm，并且设备简单，涂层均匀。因 PVD 法未超过高速钢本身的回火温度，故高速钢刀具一般采用 PVD 法，硬质合金大多采用CVD 法。硬质合金用 CVD 法涂层时，由于其沉积温度高，故涂层与基体之间容易形成一层脆性的脱碳层(η 相)，导致刀片脆性破裂。 近十几年来，随着涂覆技术的进步，硬质合金也可采用 PVD 法。国外还用 PVD/CVD 相结合的技术，开发了复合的涂层工艺，称为PACVD 法(等离子体化学气相沉积法)。即利用等离子体来促进化学 反应，可把涂覆温度降至400℃以下(目前涂覆温度已可降至 180℃ ~200℃)，使硬质合金基体与涂层材料之间不会产生扩散、相变或交换反应，可保持刀片原有的韧性。据报道，这种方法对涂覆金刚石和立方氮化硼(CBN)超硬涂层特别有效。 用 CVD 法涂层时，切削刃需预先进行钝化处理(钝圆半径一般为 0.02~0.08mm，切削刃强度随钝圆半径增大而提高)，故刃口没有未涂层刀片锋利。所以，对精加工产生薄切屑、要求切削刃锋利的刀具应采用 PVD 法。 涂层除可涂覆在普通切削刀片上外，还可涂