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本发明提供了一种研磨垫及制造研磨垫的方法与研磨装置。该研磨垫包含：一研磨层，具有多个发泡孔洞，且各该发泡孔洞的直径为1μm至10μm。本发明还提供了研磨垫的制造方法，其包括：(a)提供一基底层；(b)形成一发泡树脂于所述基底层上，该发泡树脂包含一研磨层及一绒毛层，该研磨层具有多个发泡孔洞，且各该发泡孔洞的直径为1μm至10μm；及(c)移除所述绒毛层。采用该研磨垫进行研磨工艺，研磨过程中所产生的杂质或团聚的研磨粒子等残留物不易阻塞于孔洞内，避免造成待研磨基材表面刮伤。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116922261 A
(43)申请公布日 2023.10.24
(21)申请号 202210330391.8
(22)申请日 2022.03.31
(71)申请人 贝达先进材料股份有限公司
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