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本申请公开了一种SONOS存储器件的制备方法及SONOS存储器件,属于集成电路制造技术领域。通过本申请提供的制备方法制备得到的SONOS存储器件,由于两个相对设置的L型ONO层共用位线,且位于外侧的选择管栅靠近SONOS存储器件的源端,因此该SONOS存储器件可以使用源端热载流子注入进行写入,相对于相关技术中提供的SONOS存储器件采用FN隧穿方式进行写入具有更低的操作电压,从而提高了器件的可靠性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111403402 A
(43)申请公布日
2020.07.10
(21)申请号 20201
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