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- 2023-10-28 发布于四川
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本实用新型公开了一种可用于多种光刻机对位用光罩，属于光刻机的对位系统及对位标记技术领域，所述光罩上设有对准标记组，对准标记组包括至少两种型号光刻机所需的对准标记，各对准标记相互独立。本实用新型在光罩上集成各型号光刻机所需的对准标记，即提供了一种可兼容不同型号曝光机对位用的对准标记组，为后续不同曝光机的对位提供基准，进而保证后续有序曝光，提高了产品制程效率；各对准标记相互独立，彼此间不会相互影响，避免了各类对位标记相互遮挡的问题。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219916180 U
(45)授权公告日 2023.10.27
(21)申请号 202321161441.0
(22)申请日 2023.05.15
(73)专利权人 成都海威华芯科技有限公司
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