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新结构GaN基p-i-n型紫外探测器及其光电特性研究的中期报告
本研究旨在开发一种新型结构,基于氮化镓(GaN)材料的p-i-n型紫外探测器,并研究其光电特性。
首先,我们使用分子束外延技术(MBE)在sapphire衬底上生长了GaN薄膜,然后利用光刻和湿法腐蚀技术制备了p-i-n结构。接着,通过对样品进行X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)分析,确认了GaN薄膜和p-i-n结构的生长和制备质量良好。接下来,我们对制备好的p-i-n结构进行了紫外光电特性测试。测试结果表明,该探测器的光电性能稳定,响应速度非常快,而且在紫外光谱范围内具有较高的探测灵敏度。同时,我们还研究了不同工作电压和温度下该探测器的光电特性。结果显示,该探测器在低工作电压和低温下具有更高的响应能力。最后,我们进行了对比实验,结果表明,该探测器的光电性能明显优于传统紫外光探测器。
总之,我们成功地制备了一种新型结构,基于GaN材料的p-i-n型紫外探测器,并对其光电特性进行了深入研究。研究结果表明,该探测器具有优异的光电性能,能够应用于多种领域,例如军事侦察、生物医学和环境监测等。
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