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本实用新型公开的一种具有底端保护的单晶炉水冷屏,包括:下炉筒,所述下炉筒内包括固定在所述下炉筒上方的水冷屏、保护环,所述下炉筒内用于溶解与储存多晶硅材料熔体。所述保护环套挂在所述水冷屏靠近所述多晶硅材料熔体的一面,所述保护环形成具备一定深度的环状凹槽,所述凹槽内储存有高热导率材料,所述凹槽侧壁延伸出连通至所述下炉筒外壁的管道,所述管道末端设有温度检测器。所述水冷屏在所述套挂位置设有固定件,所述保护环在所述套挂位置设有匹配所述固定件的凹陷部分,所述水冷屏的末端探至所述凹槽内。所述保护环内可以增加所
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219930325 U
(45)授权公告日 2023.10.31
(21)申请号 202320481074.6
(22)申请日 2023.03.14
(73)专利权人 昆明理工大学
地址 65009
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